CVD法 泡取式铜基底单层石墨烯薄膜
产品名称：CVD法铜基底单层石墨烯薄膜
产品性质
薄膜颜色：无色透明
产品牌号: JCGRPFCU
方阻：单层A 300-600 Ω/□ 单层B 700-1500 Ω/□ 少层 500-1200Ω/□
石墨烯薄膜生长在铜箔的表面，生长的层数为单层或少层（小于10层）。该薄膜完整性高，单层覆盖率高，导电性好，迁移率可达～6000cm2/vs。
“泡-取”式石墨烯是将铜基底石墨烯旋涂上一层有机聚合物保护膜（客户省去了这一步骤），并经过背部超净处理得到的。这种石墨烯非常方便，可以直接放到刻蚀液里把铜刻蚀掉，再转移到去离子水里漂洗掉刻蚀液即可使用。由于已经对其进行了洁净处理，这种方法得到的石墨烯干净程度很高，客户可以在刻蚀液里“泡”掉铜基底“取”出石墨烯，根据自己的需求很方便的转移到需要的地方。
本产品应密封保存于干燥环境中，且温度低于35℃。严禁与易挥发物质和污染源接触。远离火源。
备注：A级单层覆盖率大于97% ，B级单层覆盖率大于85%，少层石墨烯厚度10 层以内，可提供定制服务
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